Deposición de películas electrocrómicas de NiO por atomización electrohidrodinámica

Abstract

"En este trabajo se depositaron películas delgadas de NiO sobre sustratos conductores transparentes de FTO a partir de atomización electrohidrodinámica, usando una mezcla de Ni(NO)36H2O, etanol anhidro y butil carbitol. La relación EtOH:BC fue de 20:80, respectivamente. Se estudiaron las condiciones de deposición como: voltaje, velocidad de flujo, viscosidad, concentración molar y temperatura, a fin de correlacionar su efecto con las propiedades electrocrómicas de las películas de NiO. Para ello, se realizaron mediciones espectroelectroquímicas empleando un equipo de óptica UV-vis acoplado a un potenciostato/galvanostato. Los resultados muestran que la alta velocidad de crecimiento aumenta el coeficiente de difusión, lo que a su vez aumenta la velocidad de coloración y aclaramiento. Sin embargo, la eficiencia de coloración se ve afectada cuando se incrementa la velocidad de crecimiento, así como con la temperatura del sustrato. Lo anterior sugiere que la alta velocidad de deposición genera películas de mayor porosidad, afectando directamente las propiedades electrocrómicas de las películas [1]. La distancia entre el capilar y el sustrato determina la homogeneidad de las películas, dando como resultado una coloración más uniforme. De acuerdo a lo anterior, se encontró que las condiciones óptimas son aquellas donde se emplea una alta concentración, baja velocidad de deposición, mayor distancia y alto voltaje, con una temperatura de sustrato ligeramente superior a la evaporación del solvente [2]."